|
Квантовая электроника, 1974, том 1, номер 1, страницы 119–123
(Mi qe5703)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Спектры образования центров окраски в лазерных стеклах
Л. Б. Глебов, М. Н. Толстой
Аннотация:
Исследованы спектры образования центров окраски в матрицах промышленных силикатных стекол. Показано, что центры окраски образуются под действием ультрафиолетового излучения в узкой полосе шириной ~15 нм в области λ = 180–240 нм. Обнаружена корреляция между положением коротковолновой границы поглощения стекла и положением спектра образования центров окраски. Показано, что действие обычно применяемых антисоляризаторов в основном сводится к поглощению ими фотохимически активного излучения в области 180–240 нм.
Поступила в редакцию: 10.07.1973
Образец цитирования:
Л. Б. Глебов, М. Н. Толстой, “Спектры образования центров окраски в лазерных стеклах”, Квантовая электроника, 1:1 (1974), 119–123 [Sov J Quantum Electron, 4:1 (1974), 65–67]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe5703 https://www.mathnet.ru/rus/qe/v1/i1/p119
|
|