Образование отрицательных ионов в газовых смесях активного элемента XeCl-лазера

Исследовано образование отрицательных ионов в газовых смесях HCl(BCl₃)–Xe–He, применяемых в активных элементах XeCl-лазера. Обнаружено, что константы скоростей образования отрицательных ионов в смесях с хлоридом бора в 2.5 раза превышают таковые в смесях с хлористым водородом, составляя (5.8–2.0)·10^–10 см³/с при изменении параметра E/N от 2·10^-17 до 4·10^-16 В·см². Высказано предположение о дополнительных процессах образования отрицательных ионов в смесях с BCl₃.