Исследование свечения структур металл – барьер – металл

Исследовано видимое излучение планарными МБМ-структурами вследствие распада плазменных колебаний. Предложен метод повышения интенсивности свечения путем использования в качестве диэлектрика сложного слоя, состоящего из последовательно напыленных слоев различных окислов. Экспериментально получено увеличение эффективности излучения такими структурами в два раза по сравнению со структурами с простым барьером. Время нарастания оптического отклика МБМ-структуры на одиночный короткий импульс составило не менее 4нс. Отмечен эффект возрастания интенсивности излучения под действием СВЧ поля с частотой до 1,2 ГГц. На основе этого свойства может быть создан быстродействующий визуализатор СВЧ поля с порогом чувствительности ~1 мВт/см².