Четырёхволновые взаимодействия в активной XeCl-плазме

Решена задача четырёхволнового взаимодействия излучения в трёхуровневой среде, когда нижний рабочий уровень является разлётным. Такая ситуация характерна для УФ-активных эксимерных молекул. Проведено сравнение решения этой задачи с результатами, полученными для двухуровневой модели. Экспериментально измерен коэффициент отражения в сопряжённую волну в зависимости от коэффициента усиления слабого сигнала в активной эксимерной XeCl-плазме. Отмечено влияние четырёхволнового взаимодействия на характеристики оптических усилителей и задающих генераторов в режиме работы с узкополосным излучением.