|
Квантовая электроника, 2003, том 33, номер 1, страницы 3–6
(Mi qe2357)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 12 научных статьях (всего в 12 статьях)
Специальный выпуск, посвященный 80-летию академика Н. Г. Басова
Интенсивный источник ВУФ излучения на основе плазмы капиллярного разряда
И. И. Собельманa, А. П. Шевелькоa, О. Ф. Якушевa, Л. В. Найтb, Р. С. Турлиb a Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва
b Brigham Young University, USA
Аннотация:
Приведены результаты исследований плазмы капиллярного разряда, используемой в качестве интенсивного источника ВУФ и мягкого рентгеновского излучения. Плазма создавалась при разряде малоиндуктивных конденсаторов в газонаполненном керамическом капилляре. При использовании разных рабочих газов (CO2, Ne, Ar, Kr, Xe) наблюдалось интенсивное линейчатое излучение в широком спектральном диапазоне (30–400 Å). Абсолютный выход излучения ксенонового разряда составил ~5 мДж·(2π ср)-1·имп.-1 в пределах спектральной полосы шириной 9 Å в области 135 Å. Такой источник излучения может использоваться в различных практических приложениях: проекционной ВУФ литографии, микроскопии биологических объектов в "водяном окне", рефлектометрии и др.
Поступила в редакцию: 17.06.2002
Образец цитирования:
И. И. Собельман, А. П. Шевелько, О. Ф. Якушев, Л. В. Найт, Р. С. Турли, “Интенсивный источник ВУФ излучения на основе плазмы капиллярного разряда”, Квантовая электроника, 33:1 (2003), 3–6 [Quantum Electron., 33:1 (2003), 3–6]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe2357 https://www.mathnet.ru/rus/qe/v33/i1/p3
|
|