Зависимость диаграммы направленности излучения квантоворазмерного гетеролазера, работающего на вытекающей моде, от тока накачки

Рассмотрено изменение углового положения и угловой ширины пиков в дальнем поле излучения лазера, работающего на вытекающих модах, с увеличением тока накачки. Выявлено, что увеличение концентрации носителей в активных слоях сопровождается увеличением отклонения пучка относительно нормали к грани диода и уменьшением его расходимости, а увеличение температуры волноводных слоев относительно температуры подложки приводит к уменьшению угла между осью пучка и нормалью зеркала.