Оптическая накачка химических HF-лазеров на основе смесей NF3–H2 и ClF5–H2 открытым поверхностным разрядом в режиме волны просветления

Впервые в химическом лазере получена лазерная генерация на HF при оптической накачке открытым излучающим разрядом с использованием NF₃ и ClF₅ в качестве доноров атомов фтора и реализован режим волны просветления. Источником оптической накачки служил поверхностный разряд открытого типа, под действием которого скорость распространения волны просветления достигала ~8 км/с. Образование последней приводит к быстрой (со сверхзвуковой скоростью) смене рабочего вещества в зоне лазерной генерации, обеспечивая близкую к единице квантовую эффективность лазерной генерации. Найден оптимальный для лазера данной конструкции состав рабочей смеси (NF₃:H₂:Kr = 6:10:125 мм рт. ст.), в которой получена энергия лазерной генерации ~0.4 Дж в импульсе длительностью 3.2 мкс при удельном энергосъеме 3.5 Дж/л. Приблизительно такие же выходные характеристики лазерного излучения (0.35 Дж в импульсе длительностью 3.5 мкс в смеси Cl₅:H₂:Kr = 3:20:50 мм рт.ст.) получены при использовании ClF₅ в качестве донора атомов фтора.