Изготовление и тестирование в мягком рентгеновском и ЭУФ диапазонах дифракционных решеток с Au- и многослойным Mo/Si-покрытиями и с блеском в высоких порядках

Дифракционные решетки 500 штрих./мм с блеском и низкой шероховатостью, предназначенные для работы в высоких порядках в мягком рентгеновском и экстремальном ультрафиолетовом диапазонах излучения и имеющие Au- и многослойное Mo/Si-покрытия, изготовлены жидкостным анизотропным травлением вицинальных пластин Si(111)4° и исследованы методами атомно-силовой и растровой электронной микроскопий. Дифракционная эффективность решеток была определена как с помощью лабораторного рефлектометра, так и путем моделирования на основе строгого метода граничных интегральных уравнений в программе PCGrate™ с учетом реалистичных профилей штрихов. Измеренные в неполяризованном излучении с длинами волн 13.5 и 4.47 нм и расчетные, полученные с учетом случайной шероховатости, значения дифракционной эффективности практически совпадают. Для решетки с многослойным (пять бислоев Mo/Si) покрытием с периодом 20 нм абсолютная эффективность составила ∼40 % в –8-м порядке дифракции при угле падения 70.5°, что является рекордом для среднечастотной решетки, работающей в высоком порядке.