Фоточувствительность эрбиевых композитных фосфоросиликатных световодов к лазерному излучению с длиной волны 193 нм

Представлены и проанализированы результаты исследований фотоиндуцированного изменения показателя преломления в сердцевине эрбиевого композитного фосфоросиликатного световода при импульсном УФ облучении на длине волны λ = 193 нм, а также при последующем термическом отжиге. Показано, что предварительное насыщение композитного световода молекулярным водородом значительно увеличивает его фоточувствительность. Анализ кинетик термического отжига позволил выявить фундаментальные различия механизмов фоточувствительности в насыщенном водородом световоде и в световоде, не подвергавшемся водородной обработке. Проведены исследования спектров начального и фотоиндуцированного поглощения фосфоросиликатного стекла. Установлено, что в УФ диапазоне наведенное поглощение определяется в основном вкладом интенсивной полосы поглощения фотоиндуцированных фосфорных электронных центров PO₂ с максимумом при 4.7 эВ (λ = 260 нм).