Самоограничение толщины алмазоподобных пленок, осаждаемых при лазерном пиролизе жидких ароматических углеводородов

Обнаружен и исследован процесс саморегуляции толщины алмазоподобной пленки, осаждаемой при нагреве излучением лазера на парах меди границы раздела прозрачной диэлектрической подложки (стекло, сапфир, кварц) с жидким ароматическим углеводородом. Толщина пленки достигает 100 нм и перестает зависеть от числа лазерных импульсов, тогда как глубина аблированной области подложки, в которой происходит осаждение пленки, монотонно возрастает. Эффект саморегуляции, наблюдаемый в широком диапазоне давлений (от 0.08 до 10 атм), обусловлен как нагревом осаждаемой пленки лазерным излучением до температуры графитизации, так и механическим ее разрушением вследствие различия коэффициентов теплового расширения пленки и подложки. Последнее подтверждается с помощью рентгеновской оже-спектроскопии, результаты которой свидетельствуют об образовании в жидкости мелкодисперсной суспензии углеродных частиц с алмазным типом связи.