Нелинейный отклик сверхтонких пленок Ni в методе вырожденной четырехфотонной спектроскопии

Экспериментально исследованы сверхтонкие (толщина 17 — 25 нм) сплошные пленки Ni на подложках из стекла К8 и ZrO₂. Методом вырожденной четырехфотонной спектроскопии обнаружены характерные резонансы на зависимости эффективности самодифракции от длины волны компонент накачки. В рамках модели электронной кубической нелинейной восприимчивости, учитывающей реальную структуру спектра электронных состояний Ni, ее квантоворазмерную перенормировку и спиновое расщепление, межзонную и внутризонную релаксацию, насыщение и правила отбора для электронных переходов, показано, что в спектральном диапазоне 620 — 634 нм определяющий вклад в нелинейный отклик пленок Ni на пикосекундное (длительность импульса 20 пс) лазерное воздействие вносит электронная подсистема. Определено время релаксации межзонной поляризации T₂, которое оказалось равным ~200 фс.