Влияние поглощающего покрытия на абляцию алмаза лазерными ИК импульсами

Исследована возможность повышения производительности и качества лазерной абляционной микрообработки алмаза путем предварительного создания на его поверхности поглощающего слоя. Поликристаллический алмаз, на поверхности которого был сформирован тонкий слой титана или графита, облучался на длине волны 1030 нм импульсами длительностью 1 пс и 10 нс. Анализировались динамика роста глубины кратера в зависимости от числа импульсов и изменение оптического пропускания аблируемой поверхности. Установлено, что при облучении пикосекундными импульсами предварительная графитизация поверхности позволяет избежать лазерно-индуцированного повреждения внутреннего объема алмаза до возникновения самоподдерживающегося графитизированного слоя. Значительно больший эффект поглощающее покрытие (как титановое, так и графитовое) оказывает на абляцию алмаза наносекундными импульсами, поскольку более чем на порядок снижает порог абляции и позволяет полностью исключить лазерно-индуцированное повреждение глубинных областей алмаза и неконтролируемую взрывную абляцию в приповерхностном слое.