П. К. Гайкович, В. Н. Полковников, Н. Н. Салащенко, Н. И. Чхало, Ф. Шеферс, А. Соколов, “Влияние шероховатостей, детерминированных и случайных ошибок в толщинах пленок на отражательные характеристики апериодических зеркал для ЭУФ диапазона”, Квантовая электроника, 46:5 (2016), 406–413 [Quantum Electron., 46:5 (2016), 406

Аннотация: На примере трех апериодических многослойных Mo/Si-зеркал (AMЗ) для диапазонов длин волн 17 – 21 нм, 24 – 29 нм и 28406 – 33 нм численно изучено влияние детерминированных по линейному закону и случайных флуктуаций толщин пленок и межслойных шероховатостей на спектральные зависимости коэффициентов отражения. Результаты моделирования используются для решения обратной задачи по восстановлению межслойной шероховатости и индивидуальных толщин пленок по измеренным зависимостям коэффициентов отражения экстремального УФ излучения. Показано, что "асимметрия" границ влияет на величину и наклон плато коэффициента отражения. Случайные флуктуации толщин пленок с дисперсией 1% – 2% слабо влияют на отражательные характеристики AMЗ и позволяют надежно восстановить индивидуальные толщины пленок. Флуктуации с дисперсией 8% – 10% дают возможность оценить индивидуальные толщины, однако кривая отражения при этом существенно отличается от желаемой. Бóльшие флуктуации не позволяют восстановить структуру AMЗ. Сформулированы основные критерии, которые должны быть выполнены при синтезе высококачественных AMЗ.