Квантовая электроника
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Импакт-фактор
Правила для авторов
Загрузить рукопись

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Квантовая электроника:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Квантовая электроника, 2016, том 46, номер 5, страницы 473–480 (Mi qe16388)  

Эта публикация цитируется в 14 научных статьях (всего в 14 статьях)

Лазеро-плазменный источник ЭУФ излучения

Яркостный источник ЭУФ излучения на основе лазерной плазмы при использовании капельной жидкометаллической мишени

А. Ю. Виноходовa, М. С. Кривокорытовa, Ю. В. Сидельниковba, В. М. Кривцунba, В. В. Медведевba, К. Н. Кошелевba

a ООО "ЭУФ Лабс", г. Троицк, г. Москва
b Институт спектроскопии РАН, г. Москва, г. Троицк
Список литературы:
Аннотация: Представлены результаты исследования источника экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения на основе лазерной плазмы, созданной при взаимодействии наносекундного Nd – YAG-лазера с жидкометаллической капельной мишенью из низкотемпературного эвтектического сплава индий – олово. Генератор капель, созданный с использованием промышленного сопла, работал на основе принципа вынужденного капиллярного распада струи. Продемонстрирована долгосрочная пространственная стабильность положения центра масс капли-мишени со среднеквадратичным отклонением ~0.5 мкм. Использование низкотемпературного рабочего вещества вместо чистого олова увеличивало надежность и ресурс работы генератора капель. При средней по времени импульса и пространству плотности мощности лазерного излучения на капельной мишени 4 × 1011 Вт/см2 и диаметре излучающей плазмы ~80 мкм получена средняя эффективность преобразования лазерной энергии в энергию ЭУФ диапазона 13.5 ± 0.135 нм, равная 2.3%/(2π ср). Методом двойного импульса был смоделирован импульсно-периодический режим работы источника и показана возможность его стабильного функционирования c частотой следования импульсов до 8 кГц при частоте генерации капель более 32 кГц, что позволит обеспечить яркость источника ~0.96 кВт /(мм2·ср).
Ключевые слова: ЭУФ литография, актинический ЭУФ источник, лазерная плазма, Nd – YAG-лазер, генератор жидкометаллических капель, лазерная мишень, пространственная стабильность, эффективность конверсии, яркость источника, спектр ЭУФ излучения.
Поступила в редакцию: 19.01.2016
Англоязычная версия:
Quantum Electronics, 2016, Volume 46, Issue 5, Pages 473–480
DOI: https://doi.org/10.1070/QEL16019
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья


Образец цитирования: А. Ю. Виноходов, М. С. Кривокорытов, Ю. В. Сидельников, В. М. Кривцун, В. В. Медведев, К. Н. Кошелев, “Яркостный источник ЭУФ излучения на основе лазерной плазмы при использовании капельной жидкометаллической мишени”, Квантовая электроника, 46:5 (2016), 473–480 [Quantum Electron., 46:5 (2016), 473–480]
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/qe16388
  • https://www.mathnet.ru/rus/qe/v46/i5/p473
  • Эта публикация цитируется в следующих 14 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Квантовая электроника Quantum Electronics
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024