Отлипательная неустойчивость объемного самостоятельного разряда в активных средах нецепных HF(DF)-лазеров

Рассмотрен процесс развития отлипательной неустойчивости в активных средах электроразрядных нецепных HF(DF)-лазеров вследствие отрыва электронов от отрицательных ионов электронным ударом. Путем нагрева газовых смесей на основе SF₆ излучением импульсного CO₂-лазера осуществлено инициирование этой неустойчивости в больших и пространственно отделенных от электродов объемах газа. Экспериментально исследован эффект самоорганизации объемного самостоятельного разряда при лазерном нагреве, приводящий к образованию квазипериодических плазменных структур в объеме разрядного промежутка. Изучена эволюция этих структур в зависимости от температуры газа и удельного вклада электрической энергии. Обсуждается возможная связь эффекта самоорганизации с исследуемой отлипательной неустойчивостью. Предложен механизм распространения одиночных плазменных каналов в рабочих средах HF(DF)-лазеров, обусловленный разрушением отрицательных ионов электронным ударом.