|
Квантовая электроника, 2010, том 40, номер 9, страницы 804–810
(Mi qe14309)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 6 научных статьях (всего в 6 статьях)
Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма
Отжиг наведенного поглощения в кварцевых стеклах излучением ArF-лазера
П. Б. Сергеев, А. П. Сергеев Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва
Аннотация:
В кварцевых стеклах КС-4В, КУ-1 и Корнинг 7980 (ArF Grade) изучен отжиг излучением ArF-лазера индивидуальных полос наведенного электронным пучком поглощения (НП) в спектральном диапазоне 150 — 400 нм. Показано, что происходящая фототрансформация спектров НП в основном связана с существенным уменьшением амплитуд полос на λ = 183.5, 213 и 260 нм. Рассмотрена роль междоузельного кислорода, водорода и хлора при образовании и релаксации дефектов стекол.
Поступила в редакцию: 11.03.2010 Исправленный вариант: 10.06.2010
Образец цитирования:
П. Б. Сергеев, А. П. Сергеев, “Отжиг наведенного поглощения в кварцевых стеклах излучением ArF-лазера”, Квантовая электроника, 40:9 (2010), 804–810 [Quantum Electron., 40:9 (2010), 804–810]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe14309 https://www.mathnet.ru/rus/qe/v40/i9/p804
|
|