|
Квантовая электроника, 2011, том 41, номер 3, страницы 234–238
(Mi qe14293)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Воздействие лазерного излучения на вещество
Рентгеновский четырехканальный микроскоп для исследования плазмы на лазерной установке "Сокол-П"
Д. А. Вихляев, Д. С. Гаврилов, А. Г. Какшин, А. В. Потапов, К. В. Сафронов Российский федеральный ядерный центр — ВНИИТФ им. академика Е. И. Забабахина, г. Снежинск
Аннотация:
Описаны расчет, сборка и юстировка рентгеновского микроскопа, работающего по схеме Киркпатрика — Баеза. Изложен метод экспериментального определения разрешающей способности микроскопа. Изготовленный микроскоп позволяет одновременно получать изображения плазмы лазерных мишеней в четырех узких областях энергий из рентгеновского диапазона 0.3 — 1.5 кэВ с разрешением ~2 мкм.
Поступила в редакцию: 10.02.2010 Исправленный вариант: 13.01.2011
Образец цитирования:
Д. А. Вихляев, Д. С. Гаврилов, А. Г. Какшин, А. В. Потапов, К. В. Сафронов, “Рентгеновский четырехканальный микроскоп для исследования плазмы на лазерной установке "Сокол-П"”, Квантовая электроника, 41:3 (2011), 234–238 [Quantum Electron., 41:3 (2011), 234–238]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe14293 https://www.mathnet.ru/rus/qe/v41/i3/p234
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 203 | PDF полного текста: | 119 | Список литературы: | 33 | Первая страница: | 1 |
|