Лазерно-инициируемые источники экстремального ультрафиолетового излучения для производства интегральных схем следующего поколения

Актуальность развития мощных разрядных источников, излучающих в спектральном диапазоне 13.5 ± 0.135 нм, определяется их планируемым применением в промышленной EUV (Extreme Ultraviolet) литографии для изготовления интегральных схем по технологическим нормам 22 нм и менее. Исследованы характеристики EUV источников на основе инициируемого лазером разряда в парах олова между вращающимися дисковыми электродами. Выявлены закономерности процесса инициирования разряда лазерами с различными длинами волн излучения и определены параметры лазерного импульса, оптимальные для достижения максимальных энергетических характеристик EUV источника. Развитый подход к созданию EUV источника позволил достичь в стационарном режиме с частотой следования разрядных импульсов 3000 Гц средней мощности EUV излучения 276 Вт в спектральной полосе 13.5 ± 0.135 нм в пересчете на пространственный угол 2π ср.