Квантовая электроника
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Импакт-фактор
Правила для авторов
Загрузить рукопись

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Квантовая электроника:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Квантовая электроника, 2009, том 39, номер 4, страницы 385–387 (Mi qe13909)  

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Лазерные технологии

Технологии перфорации близкорасположенных микронных отверстий с использованием неодимовых LiF:F2--лазеров

Т. Т. Басиевa, А. Я. Карасикa, В. В. Осикоb, А. Г. Папашвилиa, Д. С. Чунаевa, А. В. Гавриловc, М. Н. Ершковc, С. Н. Сметанинc, С. А. Солохинc, А. В. Фединc, В. Н. Колокольцевd, В. М. Лазоренкоd, В. И. Товтинd

a Научный центр лазерных материалов и технологий, Институт общей физики им. А. М. Прохорова РАН, г. Москва
b Институт общей физики им. А. М. Прохорова РАН, г. Москва
c Ковровская государственная технологическая академия
d Институт металлургии и материаловедения им. А. А. Байкова РАН, г. Москва
Аннотация: Исследованы пикосекундная (на основе кристаллов YLF:Nd — LiF:F2-) и наносекундная (YAG:Nd — LiF:F2-) лазерные технологии перфорации близкорасположенных микронных отверстий в алюминиевой фольге для микроэлектроники, медицины и биологии. Получены двумерные матрицы отверстий c диаметрами 2 — 20 мкм, находящихся на расстоянии 8 — 30 мкм друг от друга, в алюминиевой фольге толщиной 20 мкм. Показаны возможности увеличения плотности расположения отверстий и уменьшения их диаметра при управлении режимом лазерного воздействия. Получен образец перфорированной алюминиевой фольги, в котором суммарная площадь микронных отверстий составляет более 30% площади поверхности.
Поступила в редакцию: 02.06.2008
Исправленный вариант: 25.11.2008
Англоязычная версия:
Quantum Electronics, 2009, Volume 39, Issue 4, Pages 385–387
DOI: https://doi.org/10.1070/QE2009v039n04ABEH013909
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
PACS: 42.62.Cf, 42.55.Rz


Образец цитирования: Т. Т. Басиев, А. Я. Карасик, В. В. Осико, А. Г. Папашвили, Д. С. Чунаев, А. В. Гаврилов, М. Н. Ершков, С. Н. Сметанин, С. А. Солохин, А. В. Федин, В. Н. Колокольцев, В. М. Лазоренко, В. И. Товтин, “Технологии перфорации близкорасположенных микронных отверстий с использованием неодимовых LiF:F2--лазеров”, Квантовая электроника, 39:4 (2009), 385–387 [Quantum Electron., 39:4 (2009), 385–387]
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/qe13909
  • https://www.mathnet.ru/rus/qe/v39/i4/p385
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Квантовая электроника Quantum Electronics
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024