Фотоиндуцированное лазерное травление алмазной поверхности

Экспериментально исследован процесс безграфитизационной абляции поверхности природного монокристалла алмаза под действием УФ импульсного лазерного излучения наносекундной длительности. При плотностях энергии облучения ниже порога графитизации алмаза получены экстремально низкие скорости травления алмаза – менее 1 нм/1000 имп., и именно для данного процесса использован термин ''наноабляция''. Исследованы зависимости скорости наноабляции от плотности лазерной энергии при облучении образца как в воздухе, так и в бескислородной атмосфере. Изучено влияние внешнего нагрева на скорость наноабляции и предложен фотохимический механизм для ее описания.