Возможности повышения порога оптического пробоя кристаллов KDP

Экспериментально исследовано влияние различных технологических факторов, таких как направление выращивания кристалла ((100) или (101)), кислотность маточного раствора, скорость выращивания, степень фильтрации маточного раствора, чистота исходного сырья, специально введенная примесь (Pb), а также послеростовой термический отжиг, на порог оптического пробоя кристаллов KDP, выращенных по технологии скоростного выращивания профилированных кристаллов. Показано, что использование исходных солей высокой чистоты и тонкой фильтрации растворов в комбинации с послеростовым отжигом кристаллов позволяет повысить порог лазерного пробоя кристаллов KDP, выращиваемых по скоростной технологии с профилированием, до значений, соответствующих требованиям современных лазерных проектов.