Квазисолитонное и многофокусное распространение высокоинтенсивных лазерных импульсов в кварцевом стекле

Представлены результаты, полученные при численном моделировании особенностей распространения высокоинтенсивных УКИ в кварцевом стекле. Показано, что при соблюдении динамического баланса между самофокусировкой и индуцированной за счет ионизации дефокусировкой возможен захват излучения, распространяющегося в среде на расстояние порядка одной дифракционной длины, в квазисолитон. При определенных соотношениях параметров излучения и среды на длинах, превышающих дифракционную, возможен многофокусный режим распространения.