Генерация когерентного излучения на F2-цeнтpax окраски в монокристалле LiF

Сообщается о генерации когерентного излучения на F₂-центрах окраски в монокристалле LiF в видимой области спектра при накачке импульсным лазером на красителе. Указываются условия облучения кристаллов, в которых за полосу поглощения 0,45 мкм ответственны преимущественно F₂-центры. Приводится спектральная область, в которой могут работать лазеры на указанном выше типе центров.