Исследование возмущений профиля плотности лазерной плазмы методом высокоскоростной интерферометрии

Рассмотрены основные параметры оптической системы регистрации интерферограмм лазерной плазмы, а также методы численной обработки последних с помощью ЭВМ. Описана схема экспериментальной установки для высокоскоростной интерферометрии в режиме щелевой развертки на фотоэлектронном регистраторе с временным разрешением 10^–10 с. При обработке полученных интерферограмм лазерной плазмы использовались специальные дополнительные методы расчета, повышающие точность результатов. Применение разработанной методики позволило обнаружить развитие возмущения на профиле электронной плотности плазменной короны при потоках греющего излучения ~5·10^–14 Вт/см².