С. В. Гарнов, С. М. Климентов, В. И. Конов, Т. В. Кононенко, Ф. Даусингер, “Особенности плазменной экранировки при абляционном формировании глубоких каналов высокоинтенсивным лазерным излучением”, Квантовая электроника, 25:1 (1998), 45–48 [Quantum Electron., 28:1 (1998), 42

Квантовая электроника

RUS ENG

ЖУРНАЛЫ ПЕРСОНАЛИИ ОРГАНИЗАЦИИ КОНФЕРЕНЦИИ СЕМИНАРЫ ВИДЕОТЕКА ПАКЕТ AMSBIB

JavaScript is disabled in your browser. Please switch it on to enable full functionality of the website

	Общая информация
	Последний выпуск
	Архив
	Импакт-фактор
	Правила для авторов
	Загрузить рукопись

	Поиск публикаций
	Поиск ссылок

	RSS
	Последний выпуск
	Текущие выпуски
	Архивные выпуски
	Что такое RSS

Квантовая электроника:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
	Найти

Персональный вход:
Логин:
Пароль:
	Запомнить пароль
	Войти
	Забыли пароль?
	Регистрация

Квантовая электроника, 1998, том 25, номер 1, страницы 45–48 (Mi qe1134)

Эта публикация цитируется в 13 научных статьях (всего в 13 статьях)

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Особенности плазменной экранировки при абляционном формировании глубоких каналов высокоинтенсивным лазерным излучением

С. В. Гарнов^a, С. М. Климентов^a, В. И. Конов^b, Т. В. Кононенко^b, Ф. Даусингер^c

^a Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва
^b Центр естественно-научных исследований Института общей физики РАН, Москва
^c Institut für Strahlwerkzeuge, Universität Stuttgart, Germany

PDF полного текста (195 kB) Список цитирования (13)

Аннотация: Измерение скоростей лазерного травления различных материалов интенсивным (до 10¹⁴ Вт/см²) импульсным излучением продемонстрировало существенное снижение эффективности травления при формировании глубоких аблированных каналов. Измерены оптические характеристики образующегося плазменно-парового факела. На основании этих измерений и численных оценок предложены два возможных физических механизма дополнительной экранировки, вызванной взаимодействием со стенками канала: ограничение радиального разлета плазмы и увеличение ее плотности за счет испарения материала стенок переизлучением плазменной области.

Поступила в редакцию: 01.08.1997

Англоязычная версия:
Quantum Electronics, 1998, Volume 28, Issue 1, Pages 42–45
DOI: https://doi.org/10.1070/QE1998v028n01ABEH001134

Реферативные базы данных:

Тип публикации: Статья

PACS: 42.62.Cf, 52.40.Hf, 52.40.Nk

Образец цитирования: С. В. Гарнов, С. М. Климентов, В. И. Конов, Т. В. Кононенко, Ф. Даусингер, “Особенности плазменной экранировки при абляционном формировании глубоких каналов высокоинтенсивным лазерным излучением”, Квантовая электроника, 25:1 (1998), 45–48 [Quantum Electron., 28:1 (1998), 42–45]

Образцы ссылок на эту страницу:

https://www.mathnet.ru/rus/qe1134

https://www.mathnet.ru/rus/qe/v25/i1/p45

Эта публикация цитируется в следующих 13 статьяx:

Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles

Что такое QR-код?

Обратная связь:

Пользовательское соглашение

Регистрация посетителей портала

Логотипы