|
Квантовая электроника, 1997, том 24, номер 11, страницы 1012–1016
(Mi qe1089)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма
Эмиссионная спектроскопия углеродной плазмы при лазерной абляции графита. 1. Абляция излучением XeCl-лазера
А. В. Демьяненко, В. С. Летохов, А. А. Пурецкиий, Е. А. Рябов Институт спектроскопии РАН, г. Троицк, Москва
Аннотация:
Методами эмиссионной спектроскопии с временным разрешением исследовано свечение факела углеродной плазмы, возникающей при абляции графита в вакууме излучением XeCl-лазера. Показано, что в процессе свечения плазмы ее спектр резко изменяется, причем при плотностях энергии лазерного излучения Φ = 4 — 5 Дж/см2 основной вклад в свечение дают ионы С+ и радикалы С2. Кинетика свечения зависит от условий возбуждения, а также различна для разных участков плазменного факела. Разработан метод компьютерного моделирования спектров C2, позволяющий по измеренным спектрам люминесценции радикалов C2 определять их колебательные и вращательные температуры (Trot и Tvib) в плазме, а также эволюцию этих температур во времени. Обнаружено, что за время свечения характерные температуры радикалов С2 меняются в широких пределах: Tvib = 2500 — 12000 K, Trot = 1500 — 10000 K.
Поступила в редакцию: 22.07.1997
Образец цитирования:
А. В. Демьяненко, В. С. Летохов, А. А. Пурецкиий, Е. А. Рябов, “Эмиссионная спектроскопия углеродной плазмы при лазерной абляции графита. 1. Абляция излучением XeCl-лазера”, Квантовая электроника, 24:11 (1997), 1012–1016 [Quantum Electron., 27:11 (1997), 983–987]
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/qe1089 https://www.mathnet.ru/rus/qe/v24/i11/p1012
|
|