Квантовая электроника
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Импакт-фактор
Правила для авторов
Загрузить рукопись

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Квантовая электроника:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Квантовая электроника, 1980, том 7, номер 4, страницы 849–854 (Mi qe10120)  
О методике получения фоторезистивных решетчатых масок

С. С. Степанов, В. А. Сычугов, Т. В. Тулайкова

Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, Москва
PDF полного текста (1057 kB)
Аннотация: Изложена методика получения фоторезистивных масок с заданным периодом и зазором между штрихами. Проведен анализ условий, определяющих время экспонирования, время проявления и концентрацию проявителя, необходимых для реализации маски с произвольной шириной зазора. Предлагаемая методика принципиально пригодна для создания масок с шириной зазора, равной ширине штриха для любого материала подложки. Показаны пределы применимости методики для получения масок с заданным профилем штриха. Все эксперименты выполнены для пленок из фоторезиста ФП-РН-7 на стеклянной подложке. При использовании изложенной методики получены фоторезистивные маски двух различных видов с периодами 0,4; 0,6 и 0,74 мкм для двух толщин пленки. Отклонение параметров масок от расчетных не превышало 20%.
Поступила в редакцию: 24.08.1979
Англоязычная версия:
Soviet Journal of Quantum Electronics, 1980, Volume 10, Issue 4, Pages 483–486
DOI: https://doi.org/10.1070/QE1980v010n04ABEH010120
Реферативные базы данных:
УДК: 621.378.33+535.89
PACS: 42.80.Fn
Образец цитирования: С. С. Степанов, В. А. Сычугов, Т. В. Тулайкова, “О методике получения фоторезистивных решетчатых масок”, Квантовая электроника, 7:4 (1980), 849–854 [Sov J Quantum Electron, 10:4 (1980), 483–486]
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{SteSycTul80}
\by С.~С.~Степанов, В.~А.~Сычугов, Т.~В.~Тулайкова
\paper О методике получения фоторезистивных решетчатых масок
\jour Квантовая электроника
\yr 1980
\vol 7
\issue 4
\pages 849--854
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/qe10120}
\transl
\jour Sov J Quantum Electron
\yr 1980
\vol 10
\issue 4
\pages 483--486
\crossref{https://doi.org/10.1070/QE1980v010n04ABEH010120}
\isi{https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcApp=Publons&SrcAuth=Publons_CEL&DestLinkType=FullRecord&DestApp=WOS_CPL&KeyUT=A1980JQ73200020}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/qe10120
  • https://www.mathnet.ru/rus/qe/v7/i4/p849
    • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Квантовая электроника Quantum Electronics
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:144
    PDF полного текста:86
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024