Прикладная механика и техническая физика
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Прикл. мех. техн. физ.:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Прикладная механика и техническая физика, 1985, том 26, выпуск 6, страницы 10–15 (Mi pmtf5371)  
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)

Влияние электронной функции распределения на динамику расширения бесстолкновительной плазмы в фоновую меньшей плотности

А. В. Мордвинов, В. М. Томозов, В. Г. Файнштейн

г. Иркутск
PDF полного текста (569 kB) Список цитирования (3)
Аннотация: На основе численного эксперимента изучено влияние вида электронной функции распределения (в частности, степенной) на динамику расширения плазменного сгустка в фоновую плазму меньшей плотности. Показано, что при достаточно больших начальных перепадах плотности от характера распределения электронов по скоростям зависят скорость опрокидывания образующегося скачка плотности, скорость предвестника, концентрация частиц в нем и другие характеристики возникающего нелинейного течения плазмы.
Поступила в редакцию: 13.07.1984
Англоязычная версия:
Journal of Applied Mechanics and Technical Physics, 1985, Volume 26, Issue 6, Pages 764–768
DOI: https://doi.org/10.1007/BF00919520
Тип публикации: Статья
УДК: 533.9.01
Образец цитирования: А. В. Мордвинов, В. М. Томозов, В. Г. Файнштейн, “Влияние электронной функции распределения на динамику расширения бесстолкновительной плазмы в фоновую меньшей плотности”, Прикл. мех. техн. физ., 26:6 (1985), 10–15; J. Appl. Mech. Tech. Phys., 26:6 (1985), 764–768
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{MorTomFai85}
\by А.~В.~Мордвинов, В.~М.~Томозов, В.~Г.~Файнштейн
\paper Влияние электронной функции распределения на динамику расширения бесстолкновительной плазмы в фоновую меньшей плотности
\jour Прикл. мех. техн. физ.
\yr 1985
\vol 26
\issue 6
\pages 10--15
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pmtf5371}
\transl
\jour J. Appl. Mech. Tech. Phys.
\yr 1985
\vol 26
\issue 6
\pages 764--768
\crossref{https://doi.org/10.1007/BF00919520}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pmtf5371
  • https://www.mathnet.ru/rus/pmtf/v26/i6/p10
    • Эта публикация цитируется в следующих 3 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Прикладная механика и техническая физика Прикладная механика и техническая физика
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:7
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024