Исследование потоков газов, активированных в электронно-пучковой плазме

Представлены результаты зондовых измерений температуры, концентрации, функции распределения по энергиям электронов и потенциала плазмы в свободной струе газа, активированной в электронно-пучковой плазме, и в плоском реакторе. Измерения проводились с помощью одиночного, двойного и тройного электростатических зондов в струях газовых смесей гелий–аргон и гелий–аргон–моносилан. Последняя из названных смесей использовалась для осаждения пленок микрокристаллического и эпитаксиального кремния. Более качественные пленки микрокристаллического кремния получались в плотной ($n_e\approx10^{17}$ м$^{-3}$) и холодной ($T_e\approx1,0\div0,5$ эВ) плазме с низким потенциалом ($U_{sp}\approx10$ В), в то время как для выращивания монокристаллических пленок кремния требовалась более горячая плазма ($T_e\approx3\div5$ эВ)с потенциалом $U_{sp}\approx15$ В.