|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Структурирование поверхности кремния плазмой тлеющего разряда
А. В. Петроваab, А. Л. Богословцеваab, С. В. Старинскийab, А. И. Сафоновa a Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
b Новосибирский национальный исследовательский государственный университет, Новосибирск, Россия
Аннотация:
Показана возможность изменения морфологии поверхности кремния при определенных параметрах тлеющего разряда. Установлено, что при обработке плазмой тлеющего разряда основным процессом, влияющим на морфологию поверхности, является окисление.
В результате обработки в исследуемом диапазоне параметров наблюдаются различные стадии процесса окисления поверхности: образование равномерного оксидного слоя, формирование нано- и микроструктур оксида кремния. Показано, что указанные процессы приводят к модификации поверхности, которая приобретает устойчивые гидрофильные и супергидрофильные свойства.
Ключевые слова:
тлеющий разряд, обработка кремния, окисление, смачиваемость, гидрофильность.
Поступила в редакцию: 22.07.2022 Исправленный вариант: 07.11.2022 Принята в печать: 28.11.2022
Образец цитирования:
А. В. Петрова, А. Л. Богословцева, С. В. Старинский, А. И. Сафонов, “Структурирование поверхности кремния плазмой тлеющего разряда”, Прикл. мех. техн. физ., 64:3 (2023), 131–136; J. Appl. Mech. Tech. Phys., 64:3 (2023), 472–477
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pmtf1312 https://www.mathnet.ru/rus/pmtf/v64/i3/p131
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 46 | Список литературы: | 7 | Первая страница: | 2 |
|