|
Письма в Журнал технической физики, 1985, том 11, выпуск 18, страницы 1110–1113
(Mi pjtf994)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Кристаллизация и эффект отжига макродефектов в процессе высокоинтенсивной ионной имплантации полупроводниковых кристаллов
В. С. Андреев, С. Б. Ефимов, Ф. Ф. Комаров, А. П. Новиков, Т. Т. Самойлюк, В. С. Соловьев, С. Ю. Ширяев Научно-исследовательский институт прикладных физических проблем им. А. Н. Севченко при Белорусском государственном университете им. В. И. Ленина
Поступила в редакцию: 17.06.1985
Образец цитирования:
В. С. Андреев, С. Б. Ефимов, Ф. Ф. Комаров, А. П. Новиков, Т. Т. Самойлюк, В. С. Соловьев, С. Ю. Ширяев, “Кристаллизация и эффект отжига макродефектов в процессе высокоинтенсивной ионной имплантации полупроводниковых кристаллов”, Письма в ЖТФ, 11:18 (1985), 1110–1113
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf994 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v11/i18/p1110
|
|