|
Письма в Журнал технической физики, 2016, том 42, выпуск 6, страницы 14–19
(Mi pjtf6468)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Влияние конструкции переходного слоя In$_{0.52}$Al$_{0.48}$As на транспортные характеристики метаморфного транзистора с высокой подвижностью электронов
А. А. Лазаренкоa, Е. В. Никитинаa, Е. В. Пироговa, М. С. Соболевa, А. Ю. Егоровbc a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
Аннотация:
Исследовано влияние толщины переходного слоя In$_{0.52}$Al$_{0.48}$As на подвижность электронов в канале InAlAs/InGaAs/GaAs HEMT-транзистора с метаморфным буфером. Исследования проводились методами атомно-силовой микроскопии и методом Холла. Оптимальная конструкция буфера способствует подавлению прорастания дислокаций несоответствия в верхние слои гетероструктуры и препятствует развитию микрорельефа поверхности.
Поступила в редакцию: 17.08.2015
Образец цитирования:
А. А. Лазаренко, Е. В. Никитина, Е. В. Пирогов, М. С. Соболев, А. Ю. Егоров, “Влияние конструкции переходного слоя In$_{0.52}$Al$_{0.48}$As на транспортные характеристики метаморфного транзистора с высокой подвижностью электронов”, Письма в ЖТФ, 42:6 (2016), 14–19; Tech. Phys. Lett., 42:3 (2016), 284–286
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6468 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v42/i6/p14
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 36 | PDF полного текста: | 17 |
|