|
Письма в Журнал технической физики, 2016, том 42, выпуск 6, страницы 6–13
(Mi pjtf6467)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Роль кристаллографической анизотропии в формировании структуры имплантированных слоев монокристаллов NiTi
Т. М. Полетикаa, Л. Л. Мейснерab, С. Л. Гирсоваa, А. В. Твердохлебоваa, С. Н. Мейснерab a Институт физики прочности и материаловедения СО РАН, Томск
b Национальный исследовательский Томский государственный университет
Аннотация:
Методом оже-электронной спектроскопии и просвечивающей электронной микроскопии исследованы состав и структура имплантированных слоев Si монокристаллов NiTi, различно ориентированных относительно направления ионно-пучкового воздействия. Выявлена роль “мягкой” [111]$_{\mathrm{B2}}$ и “жесткой” [001]$_{\mathrm{B2}}$ ориентаций NiTi в формировании структуры ионно-модифицированного поверхностного слоя, а также дефектной структуры приповерхностных слоев монокристаллов.
Поступила в редакцию: 01.10.2015
Образец цитирования:
Т. М. Полетика, Л. Л. Мейснер, С. Л. Гирсова, А. В. Твердохлебова, С. Н. Мейснер, “Роль кристаллографической анизотропии в формировании структуры имплантированных слоев монокристаллов NiTi”, Письма в ЖТФ, 42:6 (2016), 6–13; Tech. Phys. Lett., 42:3 (2016), 280–283
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6467 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v42/i6/p6
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 40 | PDF полного текста: | 9 |
|