|
Письма в Журнал технической физики, 2016, том 42, выпуск 10, страницы 78–84
(Mi pjtf6419)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 18 научных статьях (всего в 18 статьях)
Стимулированное светом резистивное переключение в структурах металл–диэлектрик–полупроводник на основе кремния
С. В. Тиховa, О. Н. Горшковab, М. Н. Коряжкинаa, И. Н. Антоновab, А. П. Касаткинa a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, г. Нижний Новгород
Аннотация:
Стимулированное светом резистивное переключение изучено в МДП-структурах на основе Si, покрытого туннельно-тонким слоем SiO$_{2}$, на который осаждался нанометровый слой Sb. В качестве диэлектрика в этих структурах использован диоксид циркония, стабилизированный оксидом иттрия.
Поступила в редакцию: 03.09.2015
Образец цитирования:
С. В. Тихов, О. Н. Горшков, М. Н. Коряжкина, И. Н. Антонов, А. П. Касаткин, “Стимулированное светом резистивное переключение в структурах металл–диэлектрик–полупроводник на основе кремния”, Письма в ЖТФ, 42:10 (2016), 78–84; Tech. Phys. Lett., 42:5 (2016), 536–538
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6419 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v42/i10/p78
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 27 | PDF полного текста: | 10 |
|