|
Письма в Журнал технической физики, 2016, том 42, выпуск 10, страницы 17–24
(Mi pjtf6411)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Резистивное переключение в мемристивных структурах Au/SiO$_{x}$/TiN/Ti с различными геометрическими параметрами и стехиометрией диэлектрической пленки
А. И. Белов, А. Н. Михайлов, Д. С. Королев, В. А. Сергеев, И. Н. Антонов, О. Н. Горшков, Д. И. Тетельбаум Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
Аннотация:
Для мемристивных структур Au/SiO$_{x}$/TiN/Ti, полученных методом магнетронного распыления и проявляющих воспроизводимый эффект резистивного переключения, проанализировано влияние толщины и стехиометрии пленки SiO$_{x}$, а также площади верхнего золотого электрода на параметры резистивного переключения. Полученные результаты свидетельствуют в пользу филаментной модели резистивного переключения в пленках SiO$_{x}$.
Поступила в редакцию: 26.12.2015
Образец цитирования:
А. И. Белов, А. Н. Михайлов, Д. С. Королев, В. А. Сергеев, И. Н. Антонов, О. Н. Горшков, Д. И. Тетельбаум, “Резистивное переключение в мемристивных структурах Au/SiO$_{x}$/TiN/Ti с различными геометрическими параметрами и стехиометрией диэлектрической пленки”, Письма в ЖТФ, 42:10 (2016), 17–24; Tech. Phys. Lett., 42:5 (2016), 505–508
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6411 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v42/i10/p17
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 38 | PDF полного текста: | 16 |
|