Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Письма в Журнал технической физики, 2016, том 42, выпуск 13, страницы 104–110 (Mi pjtf6379)  
Эта публикация цитируется в 10 научных статьях (всего в 10 статьях)

Особенности фокусировки электронного пучка плазменного источника в форвакуумном диапазоне давлений

А. А. Зенин, И. Ю. Бакеев, Ю. А. Бурачевский, А. С. Климов, Е. М. Окс

Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники
PDF полного текста (135 kB) Список цитирования (10)
Аннотация: В результате исследований особенностей фокусировки электронных пучков, генерируемых форвакуумным плазменным источником в области давлений 10–30 Pа, показана принципиальная возможность получения пучков субмиллиметровых размеров. При диаметре электронного пучка 0.6 mm плотность мощности пучка составила 10$^{5}$ W/cm$^{2}$. Достигнутые параметры пучка открывают возможность прецизионной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов, в частности высокотемпературных алюмооксидных керамик.
Поступила в редакцию: 29.11.2015
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2016, Volume 42, Issue 7, Pages 712–714
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785016070142
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. А. Зенин, И. Ю. Бакеев, Ю. А. Бурачевский, А. С. Климов, Е. М. Окс, “Особенности фокусировки электронного пучка плазменного источника в форвакуумном диапазоне давлений”, Письма в ЖТФ, 42:13 (2016), 104–110; Tech. Phys. Lett., 42:7 (2016), 712–714
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{ZenBakBur16}
\by А.~А.~Зенин, И.~Ю.~Бакеев, Ю.~А.~Бурачевский, А.~С.~Климов, Е.~М.~Окс
\paper Особенности фокусировки электронного пучка плазменного источника в форвакуумном диапазоне давлений
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2016
\vol 42
\issue 13
\pages 104--110
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf6379}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=27368257}
\transl
\jour Tech. Phys. Lett.
\yr 2016
\vol 42
\issue 7
\pages 712--714
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063785016070142}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6379
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v42/i13/p104
    • Эта публикация цитируется в следующих 10 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:35
    PDF полного текста:33
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024