|
Письма в Журнал технической физики, 2016, том 42, выпуск 14, страницы 72–79
(Mi pjtf6361)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Нормально закрытые транзисторы на основе in situ пассивированных гетероструктур AlN/GaN
К. С. Журавлевab, Т. В. Малинa, В. Г. Мансуровa, В. Е. Земляковc, В. И. Егоркинc, Я. М. Парнесd a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет
c Национальный исследовательский университет "МИЭТ"
d ЗАО "Светлана-Электронприбор", г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Развита технология молекулярно-лучевой эпитаксии роста in situ пассивированных гетероструктур SiN/AlN/GaN со сверхтонким барьером AlN. Продемонстрированы нормально закрытые транзисторы с максимальной плотностью тока около 1 A/mm, напряжением насыщения 1 V, крутизной до 350 mS/mm, пробивным напряжением более 60 V. Транзисторы показали практическое отсутствие эффектов стокового и затворного коллапса.
Поступила в редакцию: 29.02.2016
Образец цитирования:
К. С. Журавлев, Т. В. Малин, В. Г. Мансуров, В. Е. Земляков, В. И. Егоркин, Я. М. Парнес, “Нормально закрытые транзисторы на основе in situ пассивированных гетероструктур AlN/GaN”, Письма в ЖТФ, 42:14 (2016), 72–79; Tech. Phys. Lett., 42:7 (2016), 750–753
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6361 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v42/i14/p72
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 51 | PDF полного текста: | 21 |
|