|
Письма в Журнал технической физики, 2016, том 42, выпуск 15, страницы 36–42
(Mi pjtf6341)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 3 научных статьях (всего в 3 статьях)
Кристаллизация пленок аморфного гидрогенизированного кремния ($a$-Si : H) при облучении фемтосекундными лазерными импульсами
В. П. Беликa, О. С. Васютинскийa, А. В. Кукинa, М. А. Петровab, Р. С. Поповab, Е. И. Теруковac a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
c НТЦ тонкопленочных технологий в энергетике, г. С.-Петербург
Аннотация:
Исследована кристаллизация тонких пленок аморфного гидрогенизированного кремния под действием импульсов фемтосекундного лазера. Обнаружено, что наблюдаемый эффект кристаллизации носит ярко выраженный пороговый характер и зависит от длины волны лазерного излучения. Показано, что наилучшие результаты кристаллизации достигаются при использовании длин волн лазерного излучения в диапазоне 740–760 nm.
Поступила в редакцию: 23.03.2016
Образец цитирования:
В. П. Белик, О. С. Васютинский, А. В. Кукин, М. А. Петров, Р. С. Попов, Е. И. Теруков, “Кристаллизация пленок аморфного гидрогенизированного кремния ($a$-Si : H) при облучении фемтосекундными лазерными импульсами”, Письма в ЖТФ, 42:15 (2016), 36–42; Tech. Phys. Lett., 42:8 (2016), 788–791
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6341 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v42/i15/p36
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 34 | PDF полного текста: | 9 |
|