|
Голографический метод количественного измерения фотолитографических реплик толстых рельефных дефектов поверхности
Н. С. Будниковa, В. В. Дуденковаa, В. Е. Котоминаa, О. А. Морозовa, В. В. Семеновb a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Институт металлоорганической химии им. Г. А. Разуваева РАН, г. Нижний Новгород
Аннотация:
Для задачи оценки характерных размеров и рельефа микродефектов поверхности образцов сложной формы представлен голографический метод измерений прозрачных реплик – обратной маски к исследуемой поверхности. Метод измерений основан на цифровой регистрации интерферограмм полимерной реплики в модифицированной внеосевой голографической схеме Лейта–Упатниекса и расчете разности набега фазы по серии восстановленных цифровых голограмм.
Поступила в редакцию: 20.01.2017
Образец цитирования:
Н. С. Будников, В. В. Дуденкова, В. Е. Котомина, О. А. Морозов, В. В. Семенов, “Голографический метод количественного измерения фотолитографических реплик толстых рельефных дефектов поверхности”, Письма в ЖТФ, 43:11 (2017), 81–87; Tech. Phys. Lett., 43:6 (2017), 539–541
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6216 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v43/i11/p81
|
|