Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Письма в Журнал технической физики, 2017, том 43, выпуск 11, страницы 81–87
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2017.11.44700.16710
(Mi pjtf6216)
 

Голографический метод количественного измерения фотолитографических реплик толстых рельефных дефектов поверхности

Н. С. Будниковa, В. В. Дуденковаa, В. Е. Котоминаa, О. А. Морозовa, В. В. Семеновb

a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Институт металлоорганической химии им. Г. А. Разуваева РАН, г. Нижний Новгород
Аннотация: Для задачи оценки характерных размеров и рельефа микродефектов поверхности образцов сложной формы представлен голографический метод измерений прозрачных реплик – обратной маски к исследуемой поверхности. Метод измерений основан на цифровой регистрации интерферограмм полимерной реплики в модифицированной внеосевой голографической схеме Лейта–Упатниекса и расчете разности набега фазы по серии восстановленных цифровых голограмм.
Поступила в редакцию: 20.01.2017
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2017, Volume 43, Issue 6, Pages 539–541
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785017060050
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Н. С. Будников, В. В. Дуденкова, В. Е. Котомина, О. А. Морозов, В. В. Семенов, “Голографический метод количественного измерения фотолитографических реплик толстых рельефных дефектов поверхности”, Письма в ЖТФ, 43:11 (2017), 81–87; Tech. Phys. Lett., 43:6 (2017), 539–541
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{BudDudKot17}
\by Н.~С.~Будников, В.~В.~Дуденкова, В.~Е.~Котомина, О.~А.~Морозов, В.~В.~Семенов
\paper Голографический метод количественного измерения фотолитографических реплик толстых рельефных дефектов поверхности
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2017
\vol 43
\issue 11
\pages 81--87
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf6216}
\crossref{https://doi.org/10.21883/PJTF.2017.11.44700.16710}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=29359306}
\transl
\jour Tech. Phys. Lett.
\yr 2017
\vol 43
\issue 6
\pages 539--541
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063785017060050}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6216
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v43/i11/p81
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:42
    PDF полного текста:13
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024