Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Письма в Журнал технической физики, 2017, том 43, выпуск 12, страницы 83–89
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2017.12.44712.16700
(Mi pjtf6202)
 

Особенности протекания тока в структурах на основе барьера Шоттки Au/Ti/$n$-InAlAs

И. Б. Чистохин, М. С. Аксенов, Н. А. Валишева, Д. В. Дмитриев, К. С. Журавлев, А. А. Гузев

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
Аннотация: Исследованы вольт-амперные характеристики барьеров Шоттки Au/Ti/$n$-InAlAs/InP в температурном диапазоне 100–380 K. Показано, что при повышении температуры от 100 до 200 K коэффициент идеальности уменьшается от 1.58 до 1.1, а высота барьера повышается от 0.55 до 0.69 eV. При дальнейшем повышении температуры от 200 до 380 K коэффициент идеальности и высота барьера изменяются слабо. Такое поведение хорошо согласуется с моделью латеральной неоднородности высоты барьера (модель Танга), что подтверждается линейной зависимостью высоты барьера от коэффициента идеальности в диапазоне температур 100–200 K. В соответствии с этой моделью были рассчитаны значения высоты барьера гомогенного перехода 0.88 eV, среднеквадратичного отклонения 10$^{-4}$cm$^{2/3}$ $\cdot$ V$^{1/3}$ гауссова распределения высоты барьера, эффективной площади областей с пониженной высотой барьера 3.7 $\cdot$ 10$^{-11}$ cm$^{2}$ и постоянной Ричардсона 10.7 A $\cdot$ cm$^{-2}$ $\cdot$ K$^{-2}$.
Поступила в редакцию: 09.01.2017
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2017, Volume 43, Issue 6, Pages 581–583
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785017060177
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: И. Б. Чистохин, М. С. Аксенов, Н. А. Валишева, Д. В. Дмитриев, К. С. Журавлев, А. А. Гузев, “Особенности протекания тока в структурах на основе барьера Шоттки Au/Ti/$n$-InAlAs”, Письма в ЖТФ, 43:12 (2017), 83–89; Tech. Phys. Lett., 43:6 (2017), 581–583
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{ChiAksVal17}
\by И.~Б.~Чистохин, М.~С.~Аксенов, Н.~А.~Валишева, Д.~В.~Дмитриев, К.~С.~Журавлев, А.~А.~Гузев
\paper Особенности протекания тока в структурах на основе барьера Шоттки Au/Ti/$n$-InAlAs
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2017
\vol 43
\issue 12
\pages 83--89
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf6202}
\crossref{https://doi.org/10.21883/PJTF.2017.12.44712.16700}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=29359327}
\transl
\jour Tech. Phys. Lett.
\yr 2017
\vol 43
\issue 6
\pages 581--583
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063785017060177}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6202
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v43/i12/p83
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:57
    PDF полного текста:18
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024