|
Эта публикация цитируется в 14 научных статьях (всего в 14 статьях)
Влияние рассеяния распыленных атомов на скорость роста пленок, полученных методом магнетронного распыления
Д. М. Митин, А. А. Сердобинцев Саратовский национальный исследовательский государственный университет им. Н. Г. Чернышевского
Аннотация:
Приведены результаты теоретических расчетов доли нерассеянных распыленных атомов при магнетронном распылении. Экспериментально полученная зависимость скорости роста пленок кремния от давления обнаруживает корреляцию с теоретически рассчитанной зависимостью доли нерассеянных распыленных атомов. Увеличение давления в рассматриваемом диапазоне 1.5–8.5 mTorr приводит к снижению скорости роста пленок кремния на 25%, при этом уменьшение доли нерассеянных распыленных атомов на расстоянии катод-подложка достигает 90%.
Поступила в редакцию: 31.03.2017
Образец цитирования:
Д. М. Митин, А. А. Сердобинцев, “Влияние рассеяния распыленных атомов на скорость роста пленок, полученных методом магнетронного распыления”, Письма в ЖТФ, 43:17 (2017), 78–85; Tech. Phys. Lett., 43:9 (2017), 814–816
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6138 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v43/i17/p78
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 35 | PDF полного текста: | 8 |
|