Нанокристаллические покрытия $\alpha$-Al$_{2}$O$_{3}$, полученные реакционным термическим анодным испарением в дуговом разряде при низкой температуре

Впервые методом анодного термического испарения Al в дуговом разряде в кислородно-аргоновой смеси получены нанокристаллические покрытия Al$_{2}$O$_{3}$ на нержавеющей стали с использованием подслоя из Cr$_{2}$O$_{3}$ при температуре 600$^\circ$C. Проанализировано влияние состояния поверхности образцов и энергии ионов на фазовый состав, микроструктуру и свойства покрытий. Фаза $\alpha$-Al$_{2}$O$_{3}$ формируется в диапазоне значений потенциала смещения 25–200 V, с ростом которого размер микрокристаллитов уменьшается от 60 до 15 nm, а твердость покрытия возрастает от 8 до 20 GPa.