|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
Изучение кристаллической структуры эпитаксиальных пленок Co$_{40}$Fe$_{40}$B$_{20}$ на топологическом изоляторе Bi$_{2}$Te$_{3}$
А. К. Кавеевa, С. М. Сутуринa, Н. С. Соколовa, К. А. Кохbc, О. Е. Терещенкоcd a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Институт геологии и минералогии им. В. С. Соболева СО РАН, г. Новосибирск
c Новосибирский государственный университет
d Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
Аннотация:
Методом лазерной молекулярно-лучевой эпитаксии получены слои Co$_{40}$Fe$_{40}$B$_{20}$ на подложках топологического изолятора Bi$_{2}$Te$_{3}$ и изучены условия их роста. Впервые продемонстрирована возможность выращивания эпитаксиальных слоев ферромагнетика на поверхности топологического изолятора. Полученные слои CoFeB имеют ОЦК-кристаллическую структуру с кристаллической плоскостью (111), параллельной плоскости (001) Bi$_{2}$Te$_{3}$. Использование трехмерного картографирования в обратном пространстве картин дифракции быстрых электронов позволило определить эпитаксиальные соотношения пленки и подложки.
Поступила в редакцию: 14.09.2017
Образец цитирования:
А. К. Кавеев, С. М. Сутурин, Н. С. Соколов, К. А. Кох, О. Е. Терещенко, “Изучение кристаллической структуры эпитаксиальных пленок Co$_{40}$Fe$_{40}$B$_{20}$ на топологическом изоляторе Bi$_{2}$Te$_{3}$”, Письма в ЖТФ, 44:5 (2018), 10–15; Tech. Phys. Lett., 44:3 (2018), 184–186
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5864 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v44/i5/p10
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 32 | PDF полного текста: | 6 |
|