Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Письма в Журнал технической физики, 2018, том 44, выпуск 7, страницы 39–46
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2018.07.45883.17112 (Mi pjtf5843) 		 
Дозовая зависимость формирования нанокристаллов в имплантированных гелием слоях кремния

А. А. Ломовa, А. В. Мяконькихa, Ю. М. Чесноковb, В. В. Денисовcd, А. Н. Кириченкоc, В. Н. Денисовcde

a Физико-технологический институт РАН, г. Москва
b Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", г. Москва
c Технологический институт сверхтвердых и новых углеродных материалов, г. Троицк, Москва
d Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет), Московская облаcть, г. Долгопрудный
e Институт спектроскопии РАН, Москва, г. Троицк
PDF полного текста (737 kB)
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2018.07.45883.17112
Аннотация: Впервые доказана возможность формирования нанокристаллов в слоях кремния, подвергнутых плазменно-иммерсионной ионной имплантации гелия с энергией 5 keV. Влияние дозы имплантации на микроструктуру слоев изучено методами рентгеновской рефлектометрии, просвечивающей электронной микроскопии и комбинационного рассеяния света. Установлено, что процесс формирования кремниевых нанокристаллов с размерами 10–20 nm имеет ярко выраженную зависимость от потока ионов и происходит при дозе 5 $\cdot$ 10$^{17}$ cm$^{-2}$ с последующим отжигом при 700–800$^\circ$C. Показано, что превышение этой дозы приводит к разрушению верхнего защитного субслоя и деградации оптических свойств нанокристаллов.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российская академия наук - Федеральное агентство научных организаций
Министерство образования и науки Российской Федерации 14.593.21.0007
Работа выполнена в рамках Государственного задания ФАНО России. Часть работы (КРС) осуществлена при использовании оборудования ЦКП ФГБНУ ТИСНУМ при поддержке Министерства образования и науки РФ в рамках выполнения соглашения № 14.593.21.0007 от 28.08.2017 г., уникальный идентификатор соглашения RFMEFI59317X0007.
Поступила в редакцию: 07.11.2017
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2018, Volume 44, Issue 4, Pages 291–294
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785018040077
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. А. Ломов, А. В. Мяконьких, Ю. М. Чесноков, В. В. Денисов, А. Н. Кириченко, В. Н. Денисов, “Дозовая зависимость формирования нанокристаллов в имплантированных гелием слоях кремния”, Письма в ЖТФ, 44:7 (2018), 39–46; Tech. Phys. Lett., 44:4 (2018), 291–294
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{LomMyaChe18}
\by А.~А.~Ломов, А.~В.~Мяконьких, Ю.~М.~Чесноков, В.~В.~Денисов, А.~Н.~Кириченко, В.~Н.~Денисов
\paper Дозовая зависимость формирования нанокристаллов в имплантированных гелием слоях кремния
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2018
\vol 44
\issue 7
\pages 39--46
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf5843}
\crossref{https://doi.org/10.21883/PJTF.2018.07.45883.17112}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=32740248}
\transl
\jour Tech. Phys. Lett.
\yr 2018
\vol 44
\issue 4
\pages 291--294
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063785018040077}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5843
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v44/i7/p39
    • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:28
    PDF полного текста:7
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024