Создание пористых слоев германия имплантацией ионами серебра

Предлагается методика формирования слоев пористого германия ($P$-Ge) с наночастицами Ag, основанная на низкоэнергетической высокодозовой имплантации ионами металла монокристаллического германия ($c$-Ge). Для ее демонстрации проведена имплантация ионами Ag$^{+}$ полированной пластины $c$-Ge с энергией 30 keV при дозе 1.5 $\cdot$ 10$^{17}$ ion/cm$^{2}$ и плотности тока в ионном пучке 5 $\mu$A/cm$^{2}$. Методами высокоразрешающей сканирующей электронной и атомно-силовой микроскопии, а также рентгеноспектрального микрозондового анализа и дифракции отраженных электронов показано, что в результате проведенной имплантации на поверхности $c$-Ge формируется пористый аморфный слой $P$-Ge губчатой структуры, состоящей из сетки пересекающихся нанонитей, средний диаметр которых составляет $\sim$10–20 nm. На концах нитей прослеживается образование наночастиц Ag. Также установлено, что формирование пор при проведении имплантации ионами Ag$^{+}$ сопровождается эффективным распылением поверхности Ge.