Исследование поверхностной проводимости двойного слоя таллия на Si(111) после адсорбции лития и рубидия

Представлены результаты исследования двойного слоя таллия Si(111)6 $\times$ 6–Tl после адсорбции лития и рубидия методом дифракции медленных электронов и четырехзондовым методом измерения проводимости. Обнаружены новые реконструкции: 5 $\times$ 1 и 5$\sqrt3\times5\sqrt3$ в случае адсорбции лития, 2 $\times$ 2 и $\sqrt3\times\sqrt3$ в случае адсорбции рубидия. Исследована поверхностная проводимость подложек кремния в зависимости от дозы осажденного вещества. Показано, что при формировании реконструкций и 5 $\times$ 1 и 2 $\times$ 2 на поверхности подложки сохраняются проводящие свойства двумерного канала, образованного двойным слоем таллия.