Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Письма в Журнал технической физики, 2018, том 44, выпуск 16, страницы 104–110
DOI: https://doi.org/10.21883/PJTF.2018.16.46483.17255
(Mi pjtf5728)
 

Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)

Влияние легирования электродов TiCNiCr добавкой Eu$_{2}$O$_{3}$ на процесс формирования электроискрового покрытия

Ф. В. Кирюханцев-Корнеев, А. Д. Сытченко, А. Е. Кудряшов, Е. А. Левашов, Д. В. Штанский

Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", г. Москва
Аннотация: Обнаружено, что добавление 1 at.% Eu$_{2}$O$_{3}$ в состав электрода TiCNiCr влияет на энергетические параметры процесса электроискрового легирования и повышает скорость формирования покрытия.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский научный фонд 15-19-00203
Работа выполнена при финансовой поддержке Российского научного фонда (проект № 15-19-00203).
Поступила в редакцию: 16.02.2018
Англоязычная версия:
Technical Physics Letters, 2018, Volume 44, Issue 8, Pages 753–755
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063785018080217
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Ф. В. Кирюханцев-Корнеев, А. Д. Сытченко, А. Е. Кудряшов, Е. А. Левашов, Д. В. Штанский, “Влияние легирования электродов TiCNiCr добавкой Eu$_{2}$O$_{3}$ на процесс формирования электроискрового покрытия”, Письма в ЖТФ, 44:16 (2018), 104–110; Tech. Phys. Lett., 44:8 (2018), 753–755
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{KirSytKud18}
\by Ф.~В.~Кирюханцев-Корнеев, А.~Д.~Сытченко, А.~Е.~Кудряшов, Е.~А.~Левашов, Д.~В.~Штанский
\paper Влияние легирования электродов TiCNiCr добавкой Eu$_{2}$O$_{3}$ на процесс формирования электроискрового покрытия
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2018
\vol 44
\issue 16
\pages 104--110
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf5728}
\crossref{https://doi.org/10.21883/PJTF.2018.16.46483.17255}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=35270721}
\transl
\jour Tech. Phys. Lett.
\yr 2018
\vol 44
\issue 8
\pages 753--755
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063785018080217}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5728
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v44/i16/p104
  • Эта публикация цитируется в следующих 5 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:30
    PDF полного текста:8
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024