|
Стимулированное излучение на длине волны 1.3 $\mu$m в метаморфной структуре InGaAs/InGaAsP с квантовыми ямами, выращенной на подложке Ge/Si (001)
В. Я. Алёшкинab, Н. В. Байдусьb, О. В. Вихроваb, А. А. Дубиновab, Б. Н. Звонковb, З. Ф. Красильникab, К. Е. Кудрявцевab, С. М. Некоркинb, А. В. Новиковab, А. В. Рыковb, И. В. Самарцевb, Д. В. Юрасовab a Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
b Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
Аннотация:
Методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений получена лазерная структура c метаморфным слоем InGaAsP и квантовыми ямами InGaAs на неотклоненной подложке Si(001) с релаксированным Ge-буфером, излучающая при оптической накачке на длине волны 1.3 $\mu$m. Пороговая плотность мощности при температуре жидкого азота при накачке излучением с длиной волны 0.8 $\mu$m составила 250 kW/cm$^{2}$.
Поступила в редакцию: 07.03.2018
Образец цитирования:
В. Я. Алёшкин, Н. В. Байдусь, О. В. Вихрова, А. А. Дубинов, Б. Н. Звонков, З. Ф. Красильник, К. Е. Кудрявцев, С. М. Некоркин, А. В. Новиков, А. В. Рыков, И. В. Самарцев, Д. В. Юрасов, “Стимулированное излучение на длине волны 1.3 $\mu$m в метаморфной структуре InGaAs/InGaAsP с квантовыми ямами, выращенной на подложке Ge/Si (001)”, Письма в ЖТФ, 44:16 (2018), 67–74; Tech. Phys. Lett., 44:8 (2018), 735–738
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5723 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v44/i16/p67
|
|