|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Асимметрия дефектной структуры полуполярного GaN, выращенного на Si(001)
А. Е. Калмыков, А. В. Мясоедов, Л. М. Сорокин Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Методом просвечивающей электронной микроскопии исследована дефектная структура толстого ($\sim$15 $\mu$m) полуполярного слоя нитрида галлия, выращенного методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии на кремниевой подложке ориентации (001) с использованием буферных слоев. Выявлена и проанализирована асимметрия дефектной структуры слоя. Обсуждается влияние асимметрии на скорость убывания плотности прорастающих дислокаций в эпитаксиальном слое в ходе его роста.
Поступила в редакцию: 05.07.2018
Образец цитирования:
А. Е. Калмыков, А. В. Мясоедов, Л. М. Сорокин, “Асимметрия дефектной структуры полуполярного GaN, выращенного на Si(001)”, Письма в ЖТФ, 44:20 (2018), 53–61; Tech. Phys. Lett., 44:10 (2018), 926–929
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf5666 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v44/i20/p53
|
|