Новый метод подавления периферического поглощения в лазерно-плазменном источнике коротковолнового излучения с Xe газоструйной мишенью

Экспериментально наблюдалось более чем десятикратное увеличение интенсивности EUV-излучения из лазерно-плазменного источника при освещении Xe газоструйной мишени широким лазерным лучом, охватывающим всю ее наиболее плотную часть, по сравнению с интенсивностью излучения при традиционной геометрии, когда луч остро сфокусирован на ось струи. В качестве объяснения предполагается, что в этом случае почти вся плотная часть струи под действием лазерного облучения нагревается, подвергается ионизации и становится прозрачной для квантов исследуемого излучения. Толщина же поглощающей периферической оболочки лазерной искры соответственно уменьшается, что приводит к увеличению интенсивности доходящего до наблюдателя излучения.